基板清洗装置及具有该基板清洗装置的基板处理装置

摘要

一种基板清洗装置及具有该基板清洗装置的基板处理装置，具有清洗处理单元，所述清洗处理单元具有旋转卡盘，所述旋转卡盘用于在水平保持基板的同时，使基板绕贯穿基板中心的铅垂轴旋转。在旋转卡盘的外侧，设置有斜面清洗部。斜面清洗部具有清洗刷。清洗刷具有与铅直轴旋转对称的形状，并且具有上斜面清洗面、端面清洗面以及下斜面清洗面。端面清洗面是以垂直方向为轴心的圆筒面。上斜面清洗面从端面清洗面的上端向外侧上方倾斜延伸，下斜面清洗面从端面清洗面的下端向外侧下方倾斜延伸。

主权项

一种基板处理装置，相邻于曝光装置而配置，该曝光装置通过浸液法对基板进行曝光处理，其特征在于，具有：处理部，其用于对基板进行处理，交接部，其相邻于所述处理部的一个端部而设置，用于在所述处理部和所述曝光装置之间进行基板的交接；所述处理部包括感光膜涂敷单元，该感光膜涂敷单元用于在由所述曝光装置进行曝光处理前的基板的一面上涂敷形成由感光材料构成的感光膜，所述处理部以及所述交接部中的至少一个具有基板清洗装置，该基板清洗装置对在由所述感光膜涂敷单元涂敷形成所述感光膜后且由所述曝光装置进行曝光处理前的基板进行清洗，所述基板清洗装置包括：基板旋转保持装置，其在保持基板的同时使基板旋转，清洗刷，其以能够接触所述基板旋转保持装置所保持的基板的方式设置，保持构件，其用于保持所述清洗刷，臂，其与所述保持构件相连接，臂驱动机构，其使所述臂移动，刷旋转机构，其使所述清洗刷围绕与所述基板旋转保持装置所保持的基板的一面近似垂直的方向的旋转轴旋转；所述清洗刷具有：锥状的第一清洗面，其能够与由所述基板旋转保持装置保持的基板的另一面侧的斜面区域接触，圆环平面状的第二清洗面，其能够与由所述基板旋转保持装置保持的基板的所述另一面的周边部接触；所述第一以及第二清洗面以所述旋转轴为中心一体设置，所述臂驱动机构使所述清洗刷移动到如下位置，即，所述清洗刷不与基板的所述一面、所述一面侧的斜面区域以及端面区域接触，所述清洗刷的所述第一清洗面与基板的所述另一面侧的斜面区域接触，所述清洗刷的所述第二清洗面与基板的所述另一面的周边部接触。