一种用于刻蚀光阻材料的大气压冷等离子体射流装置

摘要

本发明公开了一种用于刻蚀光阻材料的大气压冷等离子体射流装置，采用氩气作为工作气体，氩气瓶外接流量控制阀，转动控制阀调节气体流量的大小，通过外接的气体流量表测出气体流量；然后，气体流量表接到聚四氟乙烯管上；聚四氟乙烯管末端接陶瓷管；高电压低频率功率源接到功率电极上，采用金属细丝环作为功率电极，放电在金属环产生后，被气流吹出腔体产生射流，射流到达基片上，进行光阻材料刻蚀。本发明能够在大气压条件下对光阻材料进行均匀而且干净地刻蚀，避免刻蚀后黑色斑点出现，这在半导体制造业光刻工艺中尤为重要，可以进行均匀刻蚀，避免基片损坏。

主权项

一种用于刻蚀光阻材料的大气压冷等离子体射流装置，其特征在于：包括氩气瓶、流量控制阀、气体流量表、聚四氟乙烯管、高压探针、功率电极、高电压低频率功率源、光纤、等离子体射流、样品和发射光谱仪；所述氩气瓶外接流量控制阀，流量控制阀上连接气体流量表，气体流量表接到聚四氟乙烯管，聚四氟乙烯管末端接陶瓷管；所述高电压低频率功率源外接功率电极，功率电极设置在陶瓷管外壁；所述陶瓷管端口对应处设置样品，在样品与陶瓷管端口之间存在等离子体射流。