发明名称 曝光装置及曝光方法
摘要
申请公布号 TWI356974 申请公布日期 2012.01.21
申请号 TW095109573 申请日期 2006.03.21
申请人 奥克制作所股份有限公司 发明人 森田亮
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项 一种曝光装置,包括:一曝光部,对基板做曝光处理,该基板系由设置于面向保持光罩薄膜的烧框的位置上的曝光台搬运;一预校准部,配置于该曝光部的正前方,藉由推动上述基板之端面的推动销移动部进行预先定位;一温度调整装置,对上述预校准部内的上述基板的表面侧以及上述曝光部的曝光台上的上述基板的表面侧进行温度调整;一湿度调整装置,对上述预校准部内的上述基板的表面侧以及上述曝光部的光罩薄膜的表面侧进行湿度调整;一基板温度湿度检测装置,检测对应于上述预校准部之上述基板之表面侧的基板表面温度及基板表面湿度;一光罩温度湿度检测装置,检测对应于上述曝光部内的上述光罩薄膜的表面侧的光罩表面温度及光罩表面湿度;以及一温度湿度控制装置,根据用上述基板温度湿度检测装置及上述光罩温度湿度检测装置所检测出的温度及湿度与预设的基准温度及基准湿度,控制以上述湿度调整装置及上述温度调整装置所调整的温度及湿度;其中上述基板温度湿度检测装置,在上述预校准部中,在推动上述基板端面的上述推动销移动部上,设有检测温度及湿度的感测器,同时在抵接于上述曝光台的基板的位置上,设有检测该基板之温度的感测器;上述光罩温度湿度检测装置,在上述曝光部中,在保持光罩薄膜的烧框上配置有检测温度及湿度的感测器,同时在抵接于上述光罩薄膜的状态下,在上述烧框所支持的透光板上配置有间接检测出该光罩薄膜温度的感测器。如申请专利范围第1项所述之曝光装置,其中上述温度调整装置包括:一抵接板,配置于上述预校准部的预先定位的位置以及载置上述曝光部之上述曝光台的基板的位置,并抵接于基板的下面;一冷媒配管路,抵接于该抵接板,将该抵接板调整至所设定的温度;以及一冷媒温度调节装置,调节流通于该配管路的冷媒的温度,其中上述预校准部的抵接板系由升降移动该基板的升降机构所支持,使得对应于将基板搬入至既定位置的输送滚子而形成贯穿孔被上述输送滚子贯穿,且该抵接板的板表面从上述输送滚子的上端上升。如申请专利范围第1项所述之曝光装置,其中上述温度湿度调整装置包括:一湿润室,与上述预校准部或者是上述曝光部分隔设置,在空气中包含设定的湿度;一湿润室温度湿度检测装置,检测该湿润室的温度及湿度;一湿润室调节部,根据该湿润室温度湿度检测装置所检测之温度及湿度,调节上述湿润室内的温度及湿度;一送风装置,将包含上述湿润室调节部所调节之湿度调节空气做送风;以及一送风流路,将该送风装置做送风的上述湿度调节空气送至上述预校准部及上述曝光部。如申请专利范围第3项所述之曝光装置,其更包括一循环流路,设于上述湿润室与上述预校准部之间以及设于上述湿润室与上述曝光室之间;上述循环流路具有从上述湿润室连通至上述预校准部及上述曝光部的送风流路、以及从上述预校准部连通至湿润室及从上述曝光部连通至湿润室的回收流路;上述送风流路在上述曝光部的上述光罩薄膜的上方侧设有送风口,同时在上述预校准部的上述基板的上方侧设有送风口;上述回收流路包括设于上述预校准部的地面侧及上述曝光部的地面侧的排气口、从该排气口经由一过滤器而循环至上述湿润室的循环路、以及从上述排气口起设于上述循环路中既定位置的排气风扇。如申请专利范围第3项所述之曝光装置,其中上述温度湿度控制装置系根据上述湿润室温度湿度检测装置所检测出的温度及湿度、上述温度湿度检测装置所检测出的预校准部与曝光部的温度及湿度、以及上述基板与上述光罩薄膜的基准温度与基准湿度,来控制上述湿润室的送风装置及湿润室调节部。一种曝光方法,使用一曝光装置,其具有一曝光部以及一预校准部,该曝光部对基板做曝光处理,该基板系由设置于面向保持光罩薄膜的烧框的位置上的曝光台搬运,该预校准部系配置于该曝光部的正前方,藉由推动上述基板之端面的推动销移动部进行预先定位,该曝光方法包括下列步骤:检测对应于位在上述预校准部之上述基板之表面侧的温度及湿度,同时检测对应于上述曝光部中的上述光罩薄膜之表面侧的温度及湿度;将检测出的上述基板表面侧的温度及湿度与上述光罩薄膜表面侧的温度及湿度,与预设之基准温度与基准湿度的差计算出来;根据所计算出的差,调整上述预校准部及上述曝光部的温度,同时调整上述预校准部及上述曝光部至少其中之一的湿度;上述预校准部及上述曝光部的温度及湿度成为调整后的温度及湿度之后,将上述预校准部的基板搬运至上述曝光部而在上述曝光部进行曝光处理。
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