发明名称 研磨工作台
摘要
申请公布号 TWM420386 申请公布日期 2012.01.11
申请号 TW100210531 申请日期 2011.06.10
申请人 吕理洲 新北市新庄区中正路421巷1号;吕明恩 新北市新庄区中正路421巷1号 发明人 吕理洲;吕明恩
分类号 B24B23/00 主分类号 B24B23/00
代理机构 代理人
主权项 一种研磨工作台,包含有:本体,其包含有第一壳体及设置于第一壳体内之第二壳体,第二壳体内则设有一升降装置,使得第一壳体得以升降做动;本体顶端设有一操作区,操作区内则设有一吸尘口,操作区之内侧顶面则设有发光元件,操作区之顶面则设有透明元件,操作区之两侧则分别设有一容置孔;控制开关,设置于操作区内;研磨装置,设置于本体操作区内,并与操作区内之控制开关电性连接;吸尘装置,设置于本体内并与操作区之吸尘口相互连接。如申请专利范围第1项所述之研磨工作台,其中该升降装置系延伸设置有位于第一壳体与第二壳体间之滑轨,使得第一壳体得相对第二壳体滑移做动。如申请专利范围第1项所述之研磨工作台,其中该操作区之顶面为斜度设计。如申请专利范围第1项所述之研磨工作台,其中该操作区顶面内侧则设有一发光元件,进而透过发光元件照明操作区。如申请专利范围第1项所述之研磨工作台,其中该操作区之顶面上系可设置放大元件。如申请专利范围第5项所述之研磨工作台,其中该放大元件系可为放大镜。如申请专利范围第5项所述之研磨工作台,其中该放大元件上系设有磁性体,使得放大元件得以透过磁性体吸附于本体操作区之顶面任何位置上。如申请专利范围第1项所述之研磨工作台,其中该本体之外型系前窄后宽,略呈一钻石型,使得本体两侧分别形成一操作开放空间。如申请专利范围第1项所述之研磨工作台,其中该吸尘装置包含有一设置于吸尘口之滤网及与吸尘口相互连接之集尘袋,集尘袋之下方则又设置一高密度滤网,且于高密度滤网下方设有吸尘机,使得吸尘机可将操作区内所产生之粉尘透过吸尘口透过吸尘机吸附于集尘袋内。如申请专利范围第1项所述之研磨工作台,其中该本体底部系可设有复数个移动轮。
地址 新北市新庄区中正路421巷1号;新北市新庄区中正路421巷1号
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