发明名称 真空表面处理装置
摘要 一种真空表面处理装置,属于金属基体表面处理技术领域。包括第一反应容器,顶部配设第一容器盖,第一容器盖上设第一压力表,在第一反应容器的上侧部设第一进气管和第一抽真空管,第一进气管上设第一电磁阀,第一抽真空管上设第二电磁阀,在第一反应容器的底部设带第一阀门的第一排液管;第二反应容器,顶部设第二容器盖,第二容器盖上设第二压力表,在第二反应容器的上侧部设第二进气管和第二抽真空管,第二进气管上设第三电磁阀,第二抽真空管上设第四电磁阀,在第二反应容器的底部设带第二阀门的第二排液管;载物容器工作机构;连接管,其上配设第五电磁阀。结构简练和操作方便,可保护作业现场的环境,避免对操作者身体产生影响。
申请公布号 CN202107757U 申请公布日期 2012.01.11
申请号 CN201120124935.2 申请日期 2011.04.26
申请人 常熟理工学院 发明人 马文斌;刘建花
分类号 C23C8/00(2006.01)I;C23C10/00(2006.01)I 主分类号 C23C8/00(2006.01)I
代理机构 常熟市常新专利商标事务所 32113 代理人 朱伟军
主权项 一种真空表面处理装置,其特征在于包括一第一反应容器(1),该第一反应容器(1)的顶部配设有第一容器盖(11),第一容器盖(11)上设有一用于显示第一反应容器(1)的第一容腔(14)内的压力的第一压力表(111),在第一反应容器(1)的上侧部设有一第一进气管(12)和一第一抽真空管(13),第一进气管(12)上设有一第一电磁阀(121),而第一抽真空管(13)上配有一第二电磁阀(131),并且在第一反应容器(1)的底部设有一用于将所述第一容腔(14)内的液体排出的第一排液管(15),该第一排液管(15)上设有一第一阀门(151);一第二反应容器(2),该第二反应容器(2)的顶部配设有第二容器盖(21),第二容器盖(21)上设有一用于显示第二反应容器(2)的第二容腔(24)内的压力的第二压力表(211),在第二反应容器(2)的上侧部设有一第二进气管(22)和一第二抽真空管(23),第二进气管(22)上设有一第三电磁阀(221),而第二抽真空管(23)上配设有一第四电磁阀(231),并且在第二反应容器(2)的底部设有一用于将所述第二容腔(24)内的液体排出的第二排液管(25),该第二排液管(25)上设有第二阀门(251);一载物容器工作机构(3),设在所述第一反应容器(1)的底部并且探入到所述的第一容腔(14)内;一连接管(4),该连接管(4)的一端与第一反应容器(1)的下部连接,另一端与第二反应容器(2)的下部连接,而中部配设有一第五电磁阀(41)。
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