采用HSQ工艺制作位相型二元衍射光学元件的方法

摘要

本发明公开了一种采用HSQ工艺制作位相型二元衍射光学元件的方法，该方法包括：A、制作二元衍射光学元件掩模版；B、在基片上涂HSQ胶，用所述掩模版对基片进行光刻，并烘干，蒸金属膜；C、采用电化学腐蚀法选择性去除基片上的金属膜；D、对基片进行烘干，得到位相型二元衍射光学元件。相对于传统的刻蚀法，本发明具有制造工艺简单，成本低，稳定性好，并能能达到更高的分辨率等特性，有利于本发明的广泛推广和应用。

主权项

一种采用HSQ工艺制作位相型二元衍射光学元件的方法，其特征在于，该方法包括：A、制作二元衍射光学元件掩模版；B、在基片上涂HSQ胶，用所述掩模版对基片进行光刻，并烘干，蒸金属膜；C、采用电化学腐蚀法选择性去除基片上的金属膜；D、对基片进行烘干，得到位相型二元衍射光学元件。