发明名称 |
聚醚改性有机聚硅氧烷、二有机聚硅氧烷-聚醚嵌段共聚物、它们的制造方法和化妆料 |
摘要 |
用硅原子结合聚缩水甘油醚或者缩水甘油醚和氧化烯的共聚物改性的有机聚硅氧烷;二有机聚硅氧烷-聚缩水甘油醚嵌段共聚物;利用有机氢聚硅氧烷与具有末端双键的聚缩水甘油醚或者缩水甘油醚和氧化烯的共聚物的氢化硅烷化反应的其制法;含有上述改性有机聚硅氧烷或二有机聚硅氧烷-聚缩水甘油醚嵌段共聚物的化妆料。 |
申请公布号 |
CN101472979B |
申请公布日期 |
2012.01.04 |
申请号 |
CN200780022787.X |
申请日期 |
2007.05.17 |
申请人 |
陶氏康宁东丽株式会社 |
发明人 |
大川直 |
分类号 |
C08G77/46(2006.01)I;A61K8/894(2006.01)I |
主分类号 |
C08G77/46(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
王健 |
主权项 |
1.聚醚改性有机聚硅氧烷,其特征在于,由平均单元式(1)表示:R<sup>1</sup><sub>a</sub>R<sup>2</sup><sub>b</sub>SiO<sub>(4-a-b)/2</sub> (1)式中,R<sup>1</sup>选自不具有脂肪族不饱和键的一价烃基、不具有脂肪族不饱和键的一价氟代烃基和通式(2)表示的有机基,分子中的R<sup>1</sup>的至少80摩尔%是不具有脂肪族不饱和键的一价烃基,-R<sup>3</sup>(-O-Z<sub>m</sub>-Y)<sub>p</sub> (2)式中,R<sup>3</sup>是碳原子数2~20的不具有脂肪族不饱和键的(p+1)价烃基或该烃基中具有醚键(C-O-C)的基团,Z为亚烷氧基,m为0~200,Y为氢原子、或选自碳原子数20以下的不具有脂肪族不饱和键的一价烃基、碳原子数20以下的不具有脂肪族不饱和键的酰基和缩水甘油基的基团,p为1~6的整数;R<sup>2</sup>是通式(3)所示的有机基:-R<sup>3</sup>(-O-X<sub>n</sub>-Z<sub>m</sub>-Y)<sub>p</sub> (3)式中,R<sup>3</sup>是碳原子数2~20的不具有脂肪族不饱和键的(p+1)价烃基或该烃基中具有醚键(C-O-C)的基团,Z为亚烷氧基,n为1~200,m为0~200,n和m为0.5<n/(n+m)≤1,Y为氢原子、或选自碳原子数20以下的不具有脂肪族不饱和键的一价烃基、碳原子数20以下的不具有脂肪族不饱和键的酰基和缩水甘油基的基团,p为1~6的整数,X为下述通式(4)或下述通式(5)表示的二价的基团,X基和Z基的排列是无规、嵌段、交替的任一种或它们的组合,<img file="F200780022787XC00011.GIF" wi="562" he="416" /><img file="F200780022787XC00021.GIF" wi="559" he="416" />上式中,W为不具有脂肪族不饱和键的一价烃基或不具有脂肪族不饱和键的一价氟代烃基;a平均为1. 0≤a≤2.5,b平均为0.001≤b≤1.5,a和b平均为1.001≤a+b≤3.0。 |
地址 |
日本东京 |