发明名称 薄膜图案层制造方法及紫外光源装置
摘要 本发明涉及一种薄膜图案层制造方法,其包括以下步骤:提供一基板,其表面具有多个分隔墙,该多个分隔墙间形成多个收容空间,该收容空间排列于基板上;提供一紫外光线,利用该紫外光线照射该多个分隔墙,该紫外光线的照射方向与该分隔墙顶部表面的夹角θ范围如下:0°<θ<90°;填充墨水至该多个收容空间内;及固化墨水以形成薄膜图案层。该紫外光线与分隔墙的顶部表面的夹角使墨水与分隔墙顶部的润湿性能降低,从而减少相邻收容空间内墨水的混色。
申请公布号 CN101303523B 申请公布日期 2011.12.21
申请号 CN200710097320.3 申请日期 2007.05.08
申请人 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 发明人 王宇宁
分类号 G03F7/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;B41J2/015(2006.01)I;B29C45/26(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I 主分类号 G03F7/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种薄膜图案层制造方法,包括以下步骤:提供一基板,其表面具有多个分隔墙,该多个分隔墙间形成多个收容空间,该收容空间排列于基板上;提供一紫外光线,利用该紫外光线照射该多个分隔墙,该紫外光线的照射方向与该分隔墙的顶部表面的夹角θ范围如下:5°<θ<80°;填充墨水至该多个收容空间内;及固化墨水以形成薄膜图案层。
地址 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号