发明名称 |
原料供应装置及蒸镀装置 |
摘要 |
本发明提供原料供应装置,该原料供应装置将原料蒸发或升华并将其供应到蒸镀装置的处理容器中,该原料供应装置具有在内部保存所述原料的原料容器、向所述原料容器的内部供应运载气体的气体流入口、以及将与所述运载气体一起被蒸发或升华的所述原料供应到所述处理容器的气体排出口,其中在所述原料容器的内部设置气流控制部,用于控制所述运载气体的流动。 |
申请公布号 |
CN101278073B |
申请公布日期 |
2011.12.14 |
申请号 |
CN200680036514.6 |
申请日期 |
2006.12.20 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
井上雅司;野泽俊久 |
分类号 |
C23C16/448(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/448(2006.01)I |
代理机构 |
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
一种原料供应装置,该原料供应装置将原料蒸发或升华并将其供应到蒸镀装置的处理容器中,所述原料供应装置的特征在于,具有:在内部空间的底面保存所述原料的原料容器;向所述原料容器的内部空间供应运载气体的气体流入口;以及将与所述运载气体一起被蒸发或升华的所述原料供应到所述处理容器的气体排出口;其中,在所述原料容器的内部空间设置气流控制部,用于控制所述运载气体的流动,所述气流控制部被设置成与所述内部空间的底面相对并保持有间隔,在所述内部空间,所述运载气体在所述气流控制部与所述内部空间的底面之间流动。 |
地址 |
日本东京都 |