发明名称 一种晶体硅切割废料氮化反应烧结碳化硅的方法
摘要 本发明属于二次资源综合利用领域,具体涉及一种用晶体硅切割废料氮化反应烧结碳化硅的方法,按如下步骤进行:将晶体硅切割废料和生产碳化硅切割粉时产生的超细碳化硅微粉,按照游离硅占原料总量5-25wt%配料混合成型后,向原料中加入粘结剂制成生坯,在氮化炉中通入纯度99wt%以上的高纯氮气并对生坯加热进行氮化处理,得到氮化硅反应烧结碳化硅的制品。本发明所使用的主要原料是工业生产中的废弃料,来源广泛,价格便宜,变废为宝,同时工艺过程所需的时间短、温度低,大大降低了制造成本。
申请公布号 CN102275925A 申请公布日期 2011.12.14
申请号 CN201110152492.2 申请日期 2011.06.09
申请人 东北大学 发明人 邢鹏飞;王珺;庄艳歆;任存治;涂赣峰
分类号 C01B31/36(2006.01)I 主分类号 C01B31/36(2006.01)I
代理机构 沈阳东大专利代理有限公司 21109 代理人 李在川
主权项 一种用晶体硅切割废料氮化反应烧结碳化硅的方法,其特征在于按如下步骤进行: (1)原料准备:按照游离硅含量占原料总量的5 25wt%准备原料,选用晶体硅切割废料为主料,生产碳化硅切割粉的副产品超细碳化硅微粉为辅料,主料和辅料在混料机中充分混合形成混合粉料原料;或者只选用晶体硅切割废料为原料;或者选用经除铁处理后的主料或辅料为原料; (2)配料成型:向原料中加入占原料总量2 8wt%的聚乙烯醇、糊精、乙醇或甘油作为粘结剂,继续与原料混合,将混合均匀的原料压制成型,并在100±5°C下烘干,得到烘干的生坯; (3)氮化反应:将上述生坯放入氮化炉中,对氮化炉抽真空达到 0.01MPa,开启通气阀门,通入纯度99wt%以上的高纯氮气至+0.01~ +0.02MPa,然后打开排气阀门继续通入氮气30 40min后,从室温升到800℃,按10°C/min升温速率加热,从800℃升到氮化终点温度1250 1350°C,按2℃/min升温速率加热,最后关闭通气和排气阀门,密闭保温60 180min,停止加热,随炉冷却,得到氮化硅反应烧结的碳化硅制品。
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