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<p>리소그래피 장치는 기판 상으로의 패턴의 노광 시에 위상 조정기의 광학 요소를 가로지르는 광파의 위상을 조정하는 상기 위상 조정기를 포함한다. 일 실시예에서, 상기 광학 요소는 리소그래피 장치의 투영 시스템 내의 열 제어가능한 광학 요소이다. 사용 시, 상기 패턴은 오프-액시스 방사선 빔을 포함하는 조명 모드로 조명된다. 이 빔은 다수의 1 차 회절 빔으로 회절되는데, 하나는 제 1 방향을 따라 상기 패턴 내의 제 1 피치와 연계되고, 또 하나는 상이한 제 2 방향을 따라 상기 패턴 내의 제 2 피치와 연계된다. 상기 제 1 피치와 연계된 상기 1 차 회절 빔이 상기 광학 요소를 가로지르는 영역이 식별된다. 이 1 차 회절 빔의 원하는 광학 위상을 다른 1 차 회절 빔의 광학 위상에 대해 계산함으로써 상기 패턴의 이미지의 이미지 특성이 최적화된다. 상기 위상 조정기는 상기 원하는 광학 위상을 상기 1 차 회절 빔에 적용하도록 제어된다.</p> |
