| 主权项 |
一种图案形成方法，其包括：将一种光阻组成物涂布在基材上，以形成一光阻薄膜；及浸渍曝光该光阻薄膜；其中该光阻组成物包含：(A)树脂，其可在酸作用下增加于硷性显影剂中的溶解度；(B)光酸产生剂；及(C)混合溶剂，其含有烷二醇烷基醚羧酸酯及丙二醇单甲基醚。如申请专利范围第1项之图案形成方法，其中该使用于浸渍曝光的浸渍液体包含水。如申请专利范围第2项之图案形成方法，其中该浸渍液体进一步包含折射率实质上等于水的脂肪族醇。一种藉由浸渍曝光形成图案之光阻组成物，其包含：(A)树脂，其可在酸作用下增加于硷性显影剂中的溶解度；(B)光酸产生剂，其于光化射线或放射线照射下产生酸，包含下列通式(ZI-2)或(ZI-3)所代表之化合物；及(C)混合溶剂，其含有烷二醇烷基醚羧酸酯及丙二醇单甲基醚；@sIMGTIF!d10001.TIF@eIMG!于式(ZI-2)中，R201至R203各自独立代表不含有芳香族环之有机基，X-代表非亲核性基；@sIMGTIF!d10002.TIF@eIMG!于式(ZI-3)中，R1c至R5c各自独立地代表氢原子、烷基、环烷基、烷氧基或卤素原子，R6c及R7c分别代表氢原子、烷基或环烷基，Rx及Ry各自独立地代表烷基、环烷基、烯丙基或乙烯基，可结合R1c至R5c之任何二个或更多个或Rx及Ry，以形成一环结构，及该环结构可包括氧原子、硫原子、酯键结或醯胺键结，Zc-代表一非亲核性阴离子。如申请专利范围第4项之藉由浸渍曝光形成图案之光阻组成物，其中该混合溶剂(C)的混合比率(以质量计)为烷二醇烷基醚羧酸酯/丙二醇单甲基醚=4/6至9/1。如申请专利范围第4项之藉由浸渍曝光形成图案之光阻组成物，其中该混合溶剂(C)的混合比率(以质量计)为烷二醇烷基醚羧酸酯/丙二醇单甲基醚=4.5/5.5至8.5/1.5。如申请专利范围第4项之藉由浸渍曝光形成图案之光阻组成物，其中该混合溶剂(C)的混合比率(以质量计)为烷二醇烷基醚羧酸酯/丙二醇单甲基醚=5/5至8/2。如申请专利范围第4项之藉由浸渍曝光形成图案之光阻组成物，其中该混合溶剂(C)的混合比率(以质量计)为烷二醇烷基醚羧酸酯/丙二醇单甲基醚=6/4至7.5/2.5。 |
