发明名称 芳族化合物及包括彼之药学组成物
摘要
申请公布号 TWI353983 申请公布日期 2011.12.11
申请号 TW094126788 申请日期 2005.08.08
申请人 大塚製藥股份有限公司 日本 发明人 福岛多惠;松村修二;武村宪昭;佐藤英昭;伊藤展明;志津田卓也;筒井启德;田中理纪;菅庆三;永尾仁;渡边研二;田井国宪;中川崇;高须英树;坂元诚;宫嶋启介;山田敏;小岛裕;安村贡一;大井直人;奥野贡广;杉山和久;清野邦彦;铃木敬;赤松圣司;儿玉健志;柳原康夫;住田卓美
分类号 C07D295/192;C07D211/46;C07D211/58;C07D213/75;C07D317/58;A61K31/46;A61K31/4409;A61K31/357;A61P43/00 主分类号 C07D295/192
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种下式(I)之芳族化合物或其盐,其中X1为氮原子或基团-CH=,R8为氢原子、可具有低级烷氧基为取代基之低级烷基、低级烷醯基、低级烷基磺醯基、或苯基低级烷基,B为基团-CO-或低级伸烷基,R7为氢原子、苯基、羧基、羟基、卤素原子、可具有卤素原子为取代基之低级烷基、苯氧基、可具有卤素原子为取代基之低级烷氧基、低级伸烷二氧基、可具有选自低级烷基、低级烷醯基、苯甲醯基及环烷基之基团为取代基之胺基、氰基、可具有卤素原子为取代基之低级烷醯基、低级烷基磺醯基、胺基磺醯基、低级烷氧基羰基、低级烷醯氧基、低级烷氧基羰基低级烷基、或具有1至4个氮原子、氧原子或硫原子之5-或6-员饱和或未饱和杂环基(其中该杂环可经酮基取代),m为1及5间之整数,其中当m为2至5时,二至五个R7可相同或不同,R2为氢原子、卤素原子、或低级烷基,p为1或2,R3为氢原子、低级烷氧基、卤素原子、可具有卤素原子为取代基之低级烷基、低级烷氧基羰基、羧基、基团-CONR11R12、或氰基,R11及R12各自系相同或不同,且为氢原子、低级烷基、环烷基、或苯基;或者R11及R12可彼此直接连接或经由氮原子、硫原子或氧原子连接且一起与所连接之氮原子形成5-至7-员饱和杂环,T为低级伸烷基、基团-N(R17)-B3-CO-、基团-B19-N(R18)-CO-、基团-B4-CO-、基团-Q-B5-CO-、基团-B6-N(R19)-B7-CO-、基团-CO-B8-、基团-CH(OH)-B9-、基团-CO-B10-CO-、基团-CH(OH)-B11-CO-、基团-CO-、基团-SO2-、或基团-B23a-CO-CO-,R17为氢原子、低级烷基、环烷基、环烷基羰基、可具有卤素原子为取代基之低级烷醯基、低级烯基、可具有低级烷基为取代基之经胺基取代之低级烷醯基、或低级烷基磺醯基,B3为低级伸烷基,B19为低级伸烷基,R18为氢原子或低级烷基,B4为低级伸烯基、或可具有羟基为取代基之低级伸烷基,Q为氧原子或基团-S(O)n-(其中n具有如上所述之相同意义),B5为低级伸烷基,B6为低级伸烷基,R19为氢原子或低级烷醯基,B7为低级伸烷基,B8为低级伸烷基,B9为低级伸烷基,B10为低级伸烷基,B11为低级伸烷基,B23a为低级伸烷基,l为0或1,R14及R15一起与所连接之氮原子形成哌啶基、或哌嗪基,其中在哌啶基或哌嗪基上之取代基为经苯基取代之低级烷基,其在低级烷基上可具有吡啶基,且其具有在苯环上可经选自如下之1至3个基团取代之1至2个苯基:低级烷醯基、可具有低级烷醯基为取代基之胺基、低级烷氧基羰基、氰基、硝基、苯基、卤素原子、可具有卤素原子为取代基之低级烷基、可具有卤素原子为取代基之低级烷氧基、苯基低级烷氧基、羟基、及低级伸烷二氧基。
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