发明名称 | X射线成像装置和X射线成像方法 | ||
摘要 | 可以获得考虑被检体的X射线吸收效果的微分相位图像或相位图像的尺寸减小的X射线成像装置和方法。测量被分离元件分离并且穿过被检体的X射线的位移。可通过使用具有根据X射线的入射位置连续改变的透过量的第一衰减元件测量位移。此时,使用被检体的X射线透过率,该X射线透过率是通过使用具有不根据X射线的入射位置而改变的透过量的第二衰减元件计算的。 | ||
申请公布号 | CN102272860A | 申请公布日期 | 2011.12.07 |
申请号 | CN201080004291.1 | 申请日期 | 2010.01.15 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 向出大平;高田一广;福田一德;渡边壮俊 |
分类号 | G21K1/06(2006.01)I | 主分类号 | G21K1/06(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 卜荣丽 |
主权项 | 一种X射线成像装置,包括:分离元件,空间地分离由X射线产生器产生的X射线;第一衰减元件,通过分离元件分离的X射线入射在该第一衰减元件上;第二衰减元件,通过分离元件分离的X射线入射在该第二衰减元件上,该第二衰减元件被设置为与第一衰减元件相邻;和检测单元,被配置为检测穿过第一衰减元件和第二衰减元件的X射线的强度,其中,第一衰减元件被配置为使得X射线的透过量依照X射线入射的位置连续改变,并且,其中,第二衰减元件被配置为使得X射线的透过量不依照X射线入射的位置改变。 | ||
地址 | 日本东京 |