用于微影之投影曝光方法及投影曝光装置

主权项

一种投影曝光方法，用于以配置在一投影物镜之一物体表面区域中一遮罩之一图案的至少一个影像，曝光配置在该投影物镜之一影像表面区域中的一辐射感光基板，该投影曝光方法包含以下步骤：在一曝光时间间隔期间，以在该投影物镜之一有效影像场中的该图案之该影像曝光该基板；在该曝光时间间隔期间，改变在该基板之一表面及该投影物镜之一焦点表面之间的一相对定位，其改变方式致使在该曝光时间间隔期间，以该遮罩之该影像的不同焦点位置曝光该有效影像场中的影像点；以及主动补偿在该曝光时间间隔期间因该等焦点位置之变更所引起之至少一个成像像差的至少一部分。