摘要 |
Um ihre Oberfläche genauer interferometrisch vermessen zu können, werden Substrate (1) für optische Elemente mit mindestens einer Basisschicht (3) und mindestens einer dotierten Deckschicht (2), die als Polierschicht dient, vorgeschlagen, bei denen die Deckschicht (2) in Bezug auf ihre Dotierung ein Konzentrationsgefälle über die Dicke der Deckschicht (2) aufweist. |