发明名称 Substrat für optische Elemente
摘要 Um ihre Oberfläche genauer interferometrisch vermessen zu können, werden Substrate (1) für optische Elemente mit mindestens einer Basisschicht (3) und mindestens einer dotierten Deckschicht (2), die als Polierschicht dient, vorgeschlagen, bei denen die Deckschicht (2) in Bezug auf ihre Dotierung ein Konzentrationsgefälle über die Dicke der Deckschicht (2) aufweist.
申请公布号 DE102010029570(A1) 申请公布日期 2011.12.01
申请号 DE20101029570 申请日期 2010.06.01
申请人 CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 SEITZ, GUENTHER;FEDOSENKO, GENNADY;EISERT, FRANK
分类号 G02B1/00;G02B5/08 主分类号 G02B1/00
代理机构 代理人
主权项
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