| 发明名称 | 化学放大型光刻胶组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种化学放大型光刻胶组合物，它含有通过将粗树脂(1)与活性炭接触所得到的经处理过的树脂(1)、酸产生剂以及溶剂，其中树脂(1)是(a)(甲基)丙烯酸树脂，它不溶或微溶于碱水溶液，但经酸作用后能溶于碱水溶液，它包含在其侧链上具有脂环烃基团的重复单元，或者(b)苯乙烯树脂，它不溶或微溶于碱水溶液，但经酸作用后能溶于碱水溶液，它含有由羟基苯乙烯衍生而来的重复单元，以及制备它的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1550894B | 申请公布日期 | 2011.11.30 |
| 申请号 | CN200410038704.4 | 申请日期 | 2004.03.26 |
| 申请人 | 住友化学工业株式会社 | 发明人 | 花元幸夫;桑名耕治;山本敏 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;C23F1/00(2006.01)I;C08F120/18(2006.01)I;C01B31/08(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 王景朝;郭广迅 |
| 主权项 | 一种化学放大型光刻胶组合物，它含有通过将粗树脂(1)与活性炭接触所得到的经处理过的树脂(1)、酸产生剂以及溶剂，其中树脂(1)是：(a)(甲基)丙烯酸树脂，它不溶或微溶于碱水溶液，但经酸作用后能溶于碱水溶液，它包含在其侧链上具有脂环烃基团的重复单元，此树脂称为树脂(a)，或者(b)苯乙烯树脂，它不溶或微溶于碱水溶液，但经酸作用后能溶于碱水溶液，它含有由羟基苯乙烯衍生而来的重复单元，此树脂称为树脂(b)。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||