| 发明名称 | 一种磁控溅射装置 | ||
| 摘要 | 一种具有优异溅射靶冷却效果的磁控溅射装置，其溅射靶的侧壁及底壁具有凹凸相间的锯齿状表面，从而能够增大其与冷却介质的接触面积，提高冷却效果，从而防止由于溅射靶过热逸出大颗粒金属粒子造成的基板污染。 | ||
| 申请公布号 | CN202054888U | 申请公布日期 | 2011.11.30 |
| 申请号 | CN201120062550.8 | 申请日期 | 2011.03.11 |
| 申请人 | 宁波表面工程研究中心 | 发明人 | 郑顺奇;齐伟光;倪杨 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种具有优异溅射靶冷却效果的磁控溅射装置，其具有一个处理室(1)，处理室具有一个用于密封的盖(2)，盖(2)的中部设有中心开孔(3)以容纳磁控枪(4)，中心开孔(3)两侧设有进水孔(5)和出水孔(6)，用以导入、导出冷却介质，盖(2)的下侧表面固定有圆筒状溅射靶(7)，溅射靶(7)的侧壁(8)以及底壁(9)围绕磁控枪(4)并与磁控枪(4)留有间隙，以作为冷却介质的流通通道，处理室底部设有承载半导体基板(10)的载物台(11)，其特征是溅射靶的侧壁(8)以及底壁(9)具有凹凸相间的锯齿状表面。 | ||
| 地址 | 315177 浙江省宁波市鄞州区古林镇科创南路99号 | ||