发明名称 一种单晶炉抽气孔堵塞的处理方法
摘要 本发明涉及一种单晶炉抽气孔堵塞的处理方法,当等晶过程中出现抽气孔堵塞时,采取以下步骤排除抽气孔处的沉积物:A、降下单晶炉内温度至硅的结晶温度。B、关闭单晶炉主室的电磁球阀;C、将单晶炉内的气体压力从600~800帕升至8万~9.5万帕,然后关闭进气口;D、敲打抽气管或使之震动,使沉积物松动,打开单晶炉主室的电磁球阀,使堵塞在抽气孔中的沉积物被气流冲走;E、打开进气口,重新调节单晶炉内的气体压力至600~800帕,同时升高单晶炉内温度至硅的溶点温度。采用本发明方法,可以在不停炉的情况下直接排除抽气孔处的粉尘、氧化物和其它杂质等沉积物,减少了能耗,提高了成品率和生产效率。
申请公布号 CN102251274A 申请公布日期 2011.11.23
申请号 CN201110202469.X 申请日期 2011.07.15
申请人 浙江荣马电子科技有限公司 发明人 徐建军;钱荣林
分类号 C30B15/00(2006.01)I;C30B35/00(2006.01)I 主分类号 C30B15/00(2006.01)I
代理机构 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人 舒良
主权项 一种单晶炉抽气孔堵塞的处理方法,其特征在于当等晶过程中出现抽气孔堵塞时,采取以下步骤排除抽气孔处的沉积物:A、降下单晶炉内温度至硅的结晶温度。B、关闭单晶炉主室的电磁球阀;C、将单晶炉内的气体压力从600~800帕升至8万~9.5万帕,然后关闭进气口;D、打开单晶炉主室的电磁球阀,使堵塞在抽气孔中的沉积物被气流冲走;E、打开进气口,重新调节单晶炉内的气体压力至600~800帕,同时升高单晶炉内温度至硅的溶点温度。
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