发明名称 层叠体及其制造方法、层叠体电路板
摘要 本发明提供能够进行精密的位置确定,制作后的剥离顺利,并且制作过程中不会剥离的用于器件制作的层叠体。一种层叠体,其为玻璃板、硅晶片等无机层,与通过芳香族四羧酸类和芳香族二胺类的反应得到的聚酰亚胺的线膨胀系数在规定的范围内的膜在不介由粘接剂层的情况下层叠而成的层叠体,层叠体的膜与无机层的180度剥离强度在规定范围内。
申请公布号 CN102256785A 申请公布日期 2011.11.23
申请号 CN200980151211.2 申请日期 2009.12.16
申请人 东洋纺织株式会社 发明人 奥山哲雄;涌井洋行;吉田武史;堤正幸;冈本淳;土屋俊之;前田乡司
分类号 B32B17/10(2006.01)I;B32B7/06(2006.01)I;B32B15/088(2006.01)I;B32B18/00(2006.01)I 主分类号 B32B17/10(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 蒋亭
主权项 一种层叠体,其特征在于,其是选自玻璃板、陶瓷板、硅晶片中的一种无机层与聚酰亚胺膜在不介由粘接剂层的情况下层叠而成的层叠体,该聚酰亚胺膜是通过芳香族四羧酸类与芳香族二胺类的反应得到的,且聚酰亚胺膜的线膨胀系数在膜的长度方向和宽度方向均为 5ppm/℃~+10ppm/℃,层叠体的膜与无机层的180度剥离强度为0.5N/cm以上3N/cm以下。
地址 日本国大阪府