发明名称 | 纳米结构及其形成方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种用于形成包含不同材料组分的交替的第一和第二铁磁性层的结构的方法。首先,形成包含支撑基质和导电基层的基板,所述支撑基质具有至少一个开口孔。然后,在包含至少一种铁磁性金属元素和一种或多种附加的、不同的金属元素的电镀溶液中对所述基板进行电镀。将具有交替高和低电势的脉冲电流施加到所述基板结构的所述导电基层,以在所述支撑基质的所述开口孔中形成不同材料组分的交替铁磁性层。 | ||
申请公布号 | CN101681706B | 申请公布日期 | 2011.11.09 |
申请号 | CN200780048050.5 | 申请日期 | 2007.09.25 |
申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | H·德利吉安尼;黄强;L·T·罗曼基夫 |
分类号 | H01F1/00(2006.01)I | 主分类号 | H01F1/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 于静;杨晓光 |
主权项 | 一种形成纳米结构的方法,包括以下步骤:形成包括支撑基质的基板结构,所述支撑基质具有至少一个开口孔,所述开口孔延伸穿过所述支撑基质到达导电基层;以及通过将所述基板结构浸入电镀溶液中,并通过将具有交替高和低脉冲的脉冲电镀电势施加到所述基板结构的所述导电基层,对所述基板结构进行电镀,由此在所述至少一个开口孔中沉积多个不同材料组分的交替铁磁性层,所述电镀溶液包括至少一种铁磁性金属元素和一种或多种附加的、不同的铁磁性或非磁性金属元素,其中所述多个交替铁磁性层中的每一层与所述多个交替铁磁性层中的具有不同材料组分的至少另一层邻接。 | ||
地址 | 美国纽约 |