A field effect transistor having a stressed contact etch stop layer with reduced conformality,申请号GB20090002636-传众专利搜索

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发明名称	A field effect transistor having a stressed contact etch stop layer with reduced conformality
摘要
申请公布号	GB2454135(B)	申请公布日期	2011.11.02
申请号	GB20090002636	申请日期	2007.08.29
申请人	ADVANCED MICRO DEVICES, INC	发明人	KAI FROHBERG;FRANK FEUSTEL;THOMAS WERNER
分类号	H01L21/336;H01L21/8238;H01L29/78	主分类号	H01L21/336
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