发明名称 Apparatus for processing substrate
摘要 <p>이를 실현하기 위한 본 발명의 기판 처리 장치는, 기판이송경로를 따라 이송되는 기판에 대하여 세정수를 분사하는 기판처리부; 상기 기판처리부에서 기판에 분사된 세정수를 회수하여 순환라인을 통해 순환공급하는 저장부;및 상기 기판처리부로부터 상기 저장부로 낙하되는 세정수의 이동 통로를 제공하는 유입관;을 포함하는 기판 처리 장치에 있어서, 상기 저장부의 내부 일측에는 상기 유입관을 통해 낙하되는 세정수를 상기 저장부의 측벽을 향하도록 유도하는 가이드판이 상기 유입관 하단의 하측으로부터 상기 저장부의 측벽을 향해 하향 경사지게 설치된 것을 특징으로 한다.</p>
申请公布号 KR101078616(B1) 申请公布日期 2011.11.01
申请号 KR20090113484 申请日期 2009.11.23
申请人 发明人
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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