发明名称 ALIGNMENT METHOD, ALIGNMENT SYSTEM AND PRODUCT WITH ALIGNMENT MARK
摘要 <p>제품의 위치는 제품 상의 정렬 마크를 이용하여 측정된다. 방사선이 정렬 마크를 향해 전달되고, 정렬 마크 내의 패턴에 의해 회절된다. 회절된 방사선의 위상 관계들로부터 위치 정보가 결정된다. 정렬 마크는 회절된 방사선이 수집되는 서로 평행인 도체 트랙들의 세트를 포함하고, 상기 패턴은 제품의 표면을 따라 위치의 함수로서 연속한 트랙들 간의 피치의 변동 패턴에 의해 정의된다. 따라서, 예를 들어 패턴은 상기 피치가 각각 제 1 및 제 2 값을 갖는 교번하는 제 1 및 제 2 영역들을 포함한다. 제 1 및 제 2 영역들과 같이 패턴의 상이한 부분들에서의 트랙들은 개선된 측정들이 가능하도록 서로 평행하다.</p>
申请公布号 KR101074047(B1) 申请公布日期 2011.10.17
申请号 KR20080126565 申请日期 2008.12.12
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;H01L21/66;H01L21/68 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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