发明名称 |
一种静电喷射阵列系统及其优化方法 |
摘要 |
一种静电喷射阵列系统及设计和优化方法,属于静电喷射技术领域。包含有两个或两个以上静电喷射单元,特征在于:每个静电喷射单元包括一个独立的或与其他静电喷射单元共用的电荷产生或注入开关(6),一个独立的或与其他静电喷射单元共用的液体流量控制装置或液体输送开关(7);该静电喷射阵列系统还包括一个与电荷产生或注入开关(6)、液体流量控制装置或液体输送开关(7)相连的自动控制装置(4),该自动控制装置(4)通过控制电荷的产生或注入通路,或液体的流量,或液体输送通断来实现喷头开关模式即每个喷头的喷射的开关状态、时间和周期。本发明具有实用性、喷射更均匀、能够在工业化生产上大规模使用的特点。 |
申请公布号 |
CN102211066A |
申请公布日期 |
2011.10.12 |
申请号 |
CN201110054077.3 |
申请日期 |
2011.03.08 |
申请人 |
顾文华 |
发明人 |
顾文华 |
分类号 |
B05B5/025(2006.01)I;B05B12/00(2006.01)I |
主分类号 |
B05B5/025(2006.01)I |
代理机构 |
南京经纬专利商标代理有限公司 32200 |
代理人 |
叶连生 |
主权项 |
一种静电喷射阵列系统,包含有两个或两个以上静电喷射单元,其中每个静电喷射单元包含一个独立的静电喷射喷头(1),一个独立的或与其他静电喷射单元共用的电荷产生和注入装置(2),一个独立的或与其他静电喷射单元共用的液体存储和输运装置(3),一个独立的或与其他静电喷射单元共用的喷射基底(5),其特征在于:每个静电喷射单元包括一个独立的或与其他静电喷射单元共用的电荷产生或注入开关(6),一个独立的或与其他静电喷射单元共用的液体流量控制装置或液体输送开关(7);该静电喷射阵列系统还包括一个与电荷产生或注入开关(6)、液体流量控制装置或液体输送开关(7)相连的自动控制装置(4),该自动控制装置(4)通过控制电荷的产生或注入通路,或液体的流量,或液体输送通断来实现喷头开关模式即每个喷头的喷射的开关状态、时间和周期。 |
地址 |
210016 江苏省南京市白下区御道街29号 |