| 发明名称 | 一种光刻照明系统 | ||
| 摘要 | 本发明提供的光刻照明系统，涉及用于半导体光刻机的照明系统。所述的光刻照明系统依次包括：光源，扩束器，衍射光学模块，变焦透镜，旋转三棱镜，微透镜阵列模块和聚光镜，其中，所述光源产生的照明光束用于照亮一个照明场，所述微透镜阵列模块至少包括一个微透镜阵列和两对刀口阵列，或者两个微透镜阵列和两对刀口阵列。本发明的光刻照明系统结构简单、透过率高，能够产生大小可调节并满足远心要求的一维梯形光强分布照明场。本发明的光刻照明系统可用于248nm、193nm或者其他波长的光刻机上。 | ||
| 申请公布号 | CN101587302B | 申请公布日期 | 2011.10.12 |
| 申请号 | CN200910145868.X | 申请日期 | 2006.11.03 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 李仲禹;李铁军 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种光刻照明系统，其特征在于，所述的光刻照明系统依次包括：光源，扩束器，衍射光学模块，变焦透镜，旋转三棱镜，微透镜阵列模块和聚光镜，其中，所述光源产生的照明光束用于照亮一个照明场，所述的微透镜阵列模块包括：一个厚透镜阵列，其前后两个表面都具有二维微柱面结构，两对刀口阵列，以及一个远心调节微透镜阵列，所述厚透镜阵列的后表面具有像散功能，所述远心调节微透镜阵列具有二维微柱面结构。 | ||
| 地址 | 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号 | ||