发明名称 |
内嵌晶闸管的PMOS晶体管以及开关电路 |
摘要 |
本发明提供了一种内嵌晶闸管的PMOS晶体管以及开关电路,所述PMOS晶体管包括:半导体衬底;形成于半导体衬底表面的栅极;形成于栅极两侧半导体衬底内的源极以及扩散区;形成于扩散区内的漏极以及N型注入区;所述扩散区的掺杂类型与源极以及漏极相同,且掺杂浓度低于所述源极以及漏极;所述N型注入区与漏极电连接,且掺杂浓度高于半导体衬底。本发明所述的开关电路具有较佳的静电保护能力。 |
申请公布号 |
CN102208413A |
申请公布日期 |
2011.10.05 |
申请号 |
CN201010144072.5 |
申请日期 |
2010.03.31 |
申请人 |
上海宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
单毅;唐成琼 |
分类号 |
H01L27/07(2006.01)I;H03K17/687(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/07(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
李丽 |
主权项 |
一种内嵌晶闸管的PMOS晶体管,其特征在于,包括:半导体衬底;形成于半导体衬底表面的栅极;形成于栅极两侧半导体衬底内的源极以及扩散区;形成于扩散区内的漏极以及N型注入区;所述扩散区的掺杂类型与源极以及漏极相同,且掺杂浓度低于所述源极以及漏极;所述N型注入区与漏极电连接,且掺杂浓度高于半导体衬底。 |
地址 |
201203 上海市浦东张江高科技园区祖冲之路1399号 |