发明名称 ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS
摘要 <p>서셉터 유닛과 메인 배플 사이의 간극 통한 불필요한 가스 유동인 서셉터 플로우를 제거할 수 있는 원자층 증착장치가 개시된다. 서셉터 플로우 제거부를 구비하는 원자층 증착장치는, 서셉터 유닛과 메인 배플 사이의 간격으로 유입되는 서셉터 플로우를 제거하기 위한 서셉터 플로우 제거부가 구비된다. 여기서, 상기 서셉터 플로우 제거부는 상기 서셉터 유닛의 측면에 형성된 흡입구 및 상기 서셉터 유닛 내부를 관통하여 상기 흡입구와 연통되며 상기 흡입구에서 흡입된 상기 서셉터 플로우를 배출시키는 배출 유로가 형성될 수 있다.</p>
申请公布号 KR101070046(B1) 申请公布日期 2011.10.04
申请号 KR20090130890 申请日期 2009.12.24
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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