发明名称 光刻设备和器件制造方法
摘要 本发明公开了光刻设备和器件制造方法。该光刻设备包括:用于支撑图案形成装置支架,图案形成装置;用于保持衬底的衬底台;液体供给系统,用于将液体提供到衬底的顶部表面的局部区域;投影系统,用于将带图案的辐射束通过液体投影到衬底的目标部分上;以及控制器,适于在穿过衬底的管芯线的成像过程中协调衬底台和支架的运动,通过在投影系统下仅沿着基本与第一方向平行的方向向后和/或向前的管芯线的运动实现衬底台和支架的运动。所述第一方向处于基本上平行于顶部表面的平面中。该器件制造方法包括:用投影系统将带图案的辐射束通过提供于投影系统和衬底之间的液体投影到衬底上,通过管芯线的运动对穿过衬底的管芯线进行成像。
申请公布号 CN101221363B 申请公布日期 2011.09.28
申请号 CN200710152749.8 申请日期 2007.09.20
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 鲍勃·斯特里弗克尔克;尧里·乔哈尼斯·劳仁提尤斯·玛丽亚·凡达麦乐恩;里查德·莫尔曼;塞德里克·德瑟
分类号 G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王新华
主权项 一种光刻设备,包括:支架,构造成用于支撑图案形成装置,所述图案形成装置能够赋予辐射束横截面图案,以形成带图案的辐射束;衬底台,配置成用于保持衬底;液体供给系统,配置成用于将液体提供到衬底的顶部表面的局部区域;投影系统,配置成用于将带图案的辐射束通过液体投影到衬底的目标部分上;以及控制器,适于在穿过衬底的管芯线的成像过程中协调衬底台和支架的运动,以使得通过在投影系统下仅沿着与第一方向平行的方向向后和/或向前的管芯线的运动实现所述衬底台和支架的运动,其中所述第一方向处于平行于衬底的顶部表面的平面中,其中,所述控制器还适于在管芯线已经曝光后,当衬底不在投影系统之下时,沿着垂直于第一方向的并在所述平面内的第二方向移动衬底,然后,在穿过衬底的第二条管芯线的曝光过程中,协调衬底台和衬底的运动,以使得通过在投影系统下面仅沿着与第一方向平行的方向向后和/或向前的衬底的运动实现所述衬底台和衬底的运动。
地址 荷兰维德霍温