发明名称 |
电阻式随机存取存储器单元 |
摘要 |
本发明提供了一种电阻式随机存取存储器单元,包括:衬底;在衬底上依次形成的掩埋氧化层和外延层;在所述外延层上依次形成的栅极介电层和栅极;在所述栅极两侧的所述外延层中形成的源区和漏区;其中所述栅极介电层的材料是铪氧化物。根据本发明的RRAM,具有高k和金属栅极的逻辑晶体管可以很容易地转化为作为非易失性RRAM执行。这使得系统级芯片的逻辑和存储器设计,很容易无缝连接地制造在一起,成为突破。本发明描述了如何将逻辑晶体管转化为RRAM单元,优选使用铪氧化物基高K电介质以利于开关,和组织为阵列和存储器操作。 |
申请公布号 |
CN102201429A |
申请公布日期 |
2011.09.28 |
申请号 |
CN201010131793.2 |
申请日期 |
2010.03.22 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
季明华;林殷茵 |
分类号 |
H01L27/24(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;G11C11/56(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/24(2006.01)I |
代理机构 |
北京市磐华律师事务所 11336 |
代理人 |
董巍;顾珊 |
主权项 |
一种电阻式随机存取存储器单元,包括:衬底;在衬底上依次形成的掩埋氧化层和外延层;在所述外延层上依次形成的栅极介电层和栅极;在所述栅极两侧的所述外延层中形成的源区和漏区;其中所述栅极介电层的材料是铪氧化物。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |