发明名称 一种双层氮化硅减反膜的制作方法
摘要 本发明公开了一种双层氮化硅减反膜的制作方法,按如下步骤进行A将经过清洗制绒、扩散、刻蚀后的晶体硅用管式PECVD沉积,得到高折射率氮化硅减反膜;B得到高折射率氮化硅减反膜后,关闭硅烷流量1-2分钟,同时保持氨气流量和射频功率不变;C将B步骤完成后得到的减反膜用管式PECVD再次沉积,得到双层氮化硅减反膜。在晶体硅太阳能电池上面镀双层氮化硅减反膜,能够提高太阳能电池片表面的钝化效果,并且降低电池片的反射率,对电池的短路电流和开压都有一定的好处,从而提高太阳能电池的转化效率。
申请公布号 CN102199760A 申请公布日期 2011.09.28
申请号 CN201110111342.7 申请日期 2011.04.28
申请人 浙江鸿禧光伏科技股份有限公司 发明人 徐杰;周兵;俞超;张健;赵丽艳;刘娟
分类号 C23C16/34(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0216(2006.01)I 主分类号 C23C16/34(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种双层氮化硅减反膜的制作方法,其特征在于按如下步骤依次执行:A将经过清洗制绒、扩散、刻蚀后的晶体硅用管式PECVD沉积,得到高折射率氮化硅减反膜,PECVD参数设置为:氨气流量3‑4.5slm,硅烷流量700‑850sccm,压强1400‑1700mTorr,射频功率3700‑4000w,开关时间5:30ms,时间100‑200s;B得到高折射率氮化硅减反膜后,关闭硅烷流量1‑2分钟,同时保持氨气流量和射频功率不变;C将B步骤完成后得到的减反膜用管式PECVD再次沉积,得到双层氮化硅减反膜,PECVD参数设置为:氨气流量4‑5.5slm,硅烷流量200‑350sccm,压强1300‑1500mTorr,射频功率3700‑4000w,开关时间5:30ms,时间380‑450s。
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