| 发明名称 | 用于原子层沉积的装置和方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于在衬底(6)的表面(4)上进行原子层沉积的装置(2)。该装置(2)包括前驱体注入头(10)，该前驱体注入头(10)包括前驱体供给源(12)和在使用中由前驱体注入头(10)和衬底表面(1)来界定的沉积空间(14)。前驱体注入头(10)设置为可将前驱体气体从前驱体供给源(12)注入到沉积空间(14)中以与衬底表面(4)接触。该装置(2)设置为可在沉积空间(14)和衬底(6)之间在衬底表面(4)的平面中提供相对运动。该装置(2)具有限制结构(26)，其设置为可将所注入的前驱体气体限制在与衬底表面(4)相邻的沉积空间(14)中。 | ||
| 申请公布号 | CN102197157A | 申请公布日期 | 2011.09.21 |
| 申请号 | CN200980142914.9 | 申请日期 | 2009.08.25 |
| 申请人 | 荷兰应用自然科学研究组织TNO | 发明人 | 迪德瑞克·简·马斯;鲍勃·凡·索美伦;阿克赛尔·塞巴斯蒂安·莱克斯蒙德;卡罗勒斯·艾达·玛丽亚·安东尼乌斯·斯佩;安东尼·埃勒特·杜伊斯特温克尔;阿德里亚努斯·约翰内斯·柏图斯·玛丽亚·维梅尔 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人 | 吴大建;刘华联 |
| 主权项 | 用于在衬底的表面上进行原子层沉积的装置，该装置包括前驱体注入头，所述前驱体注入头包括前驱体供给源以及在使用中由前驱体注入头和衬底表面来界定的沉积空间，其中所述前驱体注入头设置为将前驱体气体从前驱体供给源注入到沉积空间中以与衬底表面接触，所述装置设置为能在沉积空间和衬底之间在衬底表面的平面中提供相对运动，并且所述装置具有设置为将所注入的前驱体气体限制在与衬底表面相邻的沉积空间中的限制结构。 | ||
| 地址 | 荷兰代夫特市 | ||