灰色调掩模及图案转印方法

摘要

本发明的课题是提供一种灰色调掩模，在半透光部中具有透过光的光强度分布平坦的部分，且具备能得到规定的光强度的半透光部。再有，提供一种在将半透光部转印到被转印体的抗蚀剂膜上时能形成具有大致恒定膜厚的平坦部且具有所希望膜厚范围的抗蚀剂图案的高精度灰色调掩模。本发明的灰色调掩模(30)在透明基板上形成有遮光部(31)、透光部(32)及半透光部(33)，该灰色调掩模(33)具有与遮光部(31)相邻并被夹持的半透光部(33)，该半透光部(33)具有：形成了半透光膜(36)的半透光膜形成部(33a)；和设置在半透光部(33)相邻的遮光部(31)的边界上且露出透明基板(34)的透光狭缝部(33b、33c)。

主权项

一种灰色调掩模，在透明基板上具有半透光膜及遮光膜，在所述半透光膜及所述遮光膜上分别通过蚀刻施以规定的图案而形成有遮光部、透光部及半透光部，所述灰色调掩模具有与所述遮光部相邻并被夹持的半透光部，所述半透光部具有：形成了所述半透光膜的半透光膜形成部；和设置在所述半透光部与相邻的所述遮光部之间的边界上且露出所述透明基板的透光狭缝部，在设所述半透光部的设计值的宽度为A时，所述透光狭缝部的宽度为A/10以上，2A/5以下。