粘合的硅电极的清洁

摘要

清洁等离子体处理室元件的方法，包括用清洁溶液接触该硅表面，同时避免该清洁溶液对该元件的其他表面或区域造成的损害。一种待清洁的示例性等离子体处理室元件是弹性体粘合电极组件，其具有暴露于等离子体的硅表面的硅构件、支撑构件和该硅表面和该支撑构件之间的粘合材料。

主权项

一种清洁等离子体处理室的粘合电极组件的方法，该组件包含具有暴露于等离子体的硅表面的硅构件、支撑构件和该硅表面和该支撑构件之间的粘合材料且其中气孔贯穿该支撑构件和硅构件，该方法包含：(a)用清洁溶液接触包含具有暴露于该等离子体的该硅表面的该硅构件、该支撑构件和该硅表面和该支撑构件之间的该粘合材料且其中气孔贯穿该支撑构件和硅构件的该组件的该硅表面；以及(b)通过使用只接触该硅表面的一个或多个滚轴向该硅表面施加该清洁溶液，防止该清洁溶液破坏该支撑构件和/或粘合材料；以及(c)向该支撑构件和粘合材料中的至少一个施加含抗腐蚀剂的溶液。