| 发明名称 | 固定床气液混相反应器和使用它的气液混相反应法 | ||
| 摘要 | 发明提供：具有填充物结构的固定床反应器，其特征在于，在进行气液混相反应的固定床反应器中，具有以微通道构成的配管结构，具有截面积为0.0001cm2～0.008cm2的、单独或并列的2处以上的固定床，除了该固定床以外，还具有气相分配部、向固定床导入气相的气相导入部、液相分配部、向固定床导入液像的液相导入部、填充物导入部和流体合流部；使用上述固定床反应器进行气液混相反应的气液混相反应方法；在还原气氛中进行反应的开始和停止的过氧化氢制造方法；可使用微通道稳定且恒常地进行气液混相反应的新的固定床气液混相反应器。 | ||
| 申请公布号 | CN102186577A | 申请公布日期 | 2011.09.14 |
| 申请号 | CN200980141001.5 | 申请日期 | 2009.10.15 |
| 申请人 | 独立行政法人产业技术综合研究所;三菱瓦斯化学株式会社 | 发明人 | 井上朋也;加藤富雄;加藤贤治 |
| 分类号 | B01J19/00(2006.01)I;B01J8/02(2006.01)I;B01J23/44(2006.01)I;C01B15/029(2006.01)I | 主分类号 | B01J19/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 付建军 |
| 主权项 | 一种固定床反应器，其特征在于，在进行气液混相反应的固定床反应器中，具有以微通道构成的配管结构，具有固定床以及气相导入部和液相导入部，该固定床的截面积为0.0001cm2～0.008cm2，且具有在设气相流通时的气相导入部的配管的压力损失为ΔPg、液相通过液相导入部流通到固定床反应器时的压力损失为ΔPl时，在气液混相反应条件中满足ΔPg＞5ΔPl的条件而形成的配管的粗细结构和/或满足ΔPg＞5ΔPl的条件而形成的促进气液混相形成的填充物结构。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||