制作图案化材料层的方法

摘要

一种制作图案化材料层的方法，所述制作图案化材料层的方法包括下列步骤。首先，于基材上覆盖一感光材料层。接着，形成一半色调掩膜于基材上方，且半色调掩膜具有一半色调图案。半色调图案的透光率介于40％至80％之间，因此光线只能部份通过。之后，通过半色调图案对感光材料层的曝光区域进行曝光。然后，显影感光材料层，以形成曝光图案，且曝光图案的最小线宽小于半色调图案的最小线宽。在此也揭露一种通过上述方法形成的图案化材料层。

主权项

一种制作图案化材料层的方法，其特征在于，所述制作图案化材料层的方法包括：提供一基材，所述基材上覆盖一感光材料层；提供一半色调掩膜于所述基材上方，所述半色调掩膜具有不透光区和半透光区，其中所述半透光区覆盖一半色调图案，且所述半色调图案的透光率介于40％与80％之间；通过所述半色调掩膜的所述半色调图案对所述感光材料层的一曝光区域进行曝光，并且使部分所述曝光区域的曝光深度实质上等于所述感光材料层的厚度；以及显影所述感光材料层，以形成一曝光图案，其中所述曝光图案暴露出局部的基材，且所述曝光图案的最小线宽小于所述半色调图案的最小线宽。