| 主权项 |
一种制造一光微影图案元件(MA)之方法，该元件系用于使用一微影投影装置(IL)将一形成于该图案元件中之图案转移至一基材(W)上，该方法包含：在形成于该图案元件内之图案中定义特征，其中该等特征具有经选定以在图案转移期间于该基材(W)上产生一所需影像之尺寸和方位；对于该图案元件上之复数个点，计算该等已定义特征上之一辐射有效阴影角；及根据该等已计算之有效阴影角，调整该等已定义特征，以针对位移及尺寸误差补偿该所需影像，其特征为该等已定义特征可由改变该等特征之尺寸及/或位置来加以调整。如请求项1之产生一光微影图案元件的方法，其中该等已定义特征系使用以下至少一项来调整：-一吸收器层(50)之厚度，其系用以定义该等特征；-该吸收器层(50)之强度阻尼。一种制造一光微影图案元件之方法，该元件系用于使用一微影投影装置将一形成在该图案元件(MA)中之图案转移至一基材上，该方法包含：在形成于该元件内之图案中定义特征，其中该等特征具有经选定以在图案转移期间于该基材上产生一所需影像之尺寸和方位；及调整该等已定义特征，以针对图案转移期间一曝光狭缝内与该等特征之位置相关的位移及尺寸误差，补偿该所需影像，其特征为该等已定义特征可由改变该等特征之尺寸及/或位置来加以调整。如请求项3之产生一微影图案元件的方法，其中该等已定义特征系使用以下至少一项来调整：-一吸收器层(50)之厚度，其系用以定义该等特征；-该吸收器层(50)之强度阻尼。一种控制一电脑之电脑程式产品，其包含一可由该电脑读取之记录媒体，及记录在该记录媒体上且可由该电脑执行之程式码，以引导该电脑产生一用于产生一图案元件(MA)之调整模型，其用以使用一微影投影装置将一形成于该图案元件(MA)中之图案光学地转移至一基材(W)上，该调整模型之产生包含：分析特征之一表示法，其中该等特征具有经选定以在图案转移期间于该基材上产生一所需影像之尺寸和方位；对于在该图案元件上之复数个点，计算在该等已定义特征上之一辐射有效阴影角；及根据该已计算出之有效阴影角，调整该等已定义之特征，以针对位移及尺寸误差补偿该所需影像，其特征为该等已定义特征可由改变该等特征之尺寸及/或位置来加以调整。一种控制一电脑之电脑程式产品，其包含一可由该电脑读取之记录媒体，及记录在该记录媒体上且可由该电脑执行之程式码，以引导该电脑产生一用于产生一图案元件(MA)之调整模型，其用以使用一微影投影装置将一形成在该图案元件中之图案光学地转移至一基材(W)上，该调整模型之产生包含：分析形成在该图案元件中之该图案的特征，其中该等特征具有经选定以在图案转移期间于该基材上产生一所需影像之尺寸和方位；及调整该等特征，以针对图案转移期间该曝光狭缝内与该等特征之位置相关的位移及尺寸误差，补偿该所需影像，其特征为该等已定义特征可由改变该等特征之尺寸及/或位置来加以调整。 |
