发明名称 |
铬版多余铬点的修补方法 |
摘要 |
本发明公开了一种铬版多余铬点的修补方法。该铬版多余铬点的修补方法包括:步骤a,清洗并干燥待修补的铬版;步骤b,使用显微镜观察该铬版多余铬点的位置;步骤c,将刻蚀液滴至该铬版多余铬点的位置以刻蚀该铬版多余铬点;步骤d,清除该刻蚀液,再次清洗并干燥该铬版。本发明能够利用刻蚀液有效地修补铬版多余铬点且对铬版的玻璃基片无损伤,修补方法安全方便,成本较低且保证铬版图形显示正常。 |
申请公布号 |
CN102169285A |
申请公布日期 |
2011.08.31 |
申请号 |
CN201110101823.X |
申请日期 |
2011.04.21 |
申请人 |
深圳市科利德光电材料股份有限公司 |
发明人 |
庄奎乾;崔兴永;石孟阳 |
分类号 |
G03F1/08(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/08(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 |
代理人 |
何青瓦 |
主权项 |
一种铬板多余铬点的修补方法,其特征在于,所述铬板多余铬点的修补方法包括:步骤a,清洗并干燥待修补的铬版;步骤b,使用显微镜观察所述铬板多余铬点的位置;步骤c,将刻蚀液滴至所述铬板多余铬点的位置以刻蚀所述铬板多余铬点;步骤d,清除所述刻蚀液,再次清洗并干燥所述铬版。 |
地址 |
518000 广东省深圳市南山区凯虹工业区64栋东六层 |