发明名称 粒子射线照射方法及该方法中使用的粒子射线照射装置
摘要 在进行深度方向的照射区扩大及横向的照射区扩大的粒子射线照射方法及粒子射线照射装置中,使照射目标的各照射层的各自的照射剂量实质上一定,力图简化控制,同时力图减少伴随照射目标的移位而产生的照射误差。深度方向的照射区扩大采用使前述粒子射线束在照射方向互相不同的射程的多个照射层重叠的主动照射区扩大,另外,配置具有沿照射目标的深度方向的最深部的形状的团块,使其横切粒子射线束,再有,对于从多个照射层中选择的至少一个照射层,再照射1次以上粒子射线束。
申请公布号 CN101031336B 申请公布日期 2011.08.10
申请号 CN200580026406.6 申请日期 2005.02.04
申请人 三菱电机株式会社 发明人 原田久
分类号 A61N5/10(2006.01)I;G21K3/00(2006.01)I;G21K5/00(2006.01)I;G21K5/04(2006.01)I 主分类号 A61N5/10(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 张鑫
主权项 一种粒子射线照射装置,其特征在于,是具有:发生粒子射线束的粒子射线发生单元;输送该粒子射线发生单元发生的所述粒子射线束的粒子射线输送单元;将该粒子射线输送单元输送的所述粒子射线束向照射目标进行照射的粒子射线照射单元;在所述粒子射线束的沿照射方向的深度方向,扩大所述粒子射线束的照射区的深度方向的照射区扩大装置;以及沿与所述粒子射线束的照射方向垂直的横向,扩大所述粒子射线束的照射区的横向的照射区扩大装置的粒子射线照射装置,所述深度方向的照射区扩大装置,采用使在所述粒子射线束的照射方向上具有不同射程的多个照射层重叠的主动的深度方向的照射区扩大装置,所述粒子射线照射装置还包括:配置成横切所述粒子射线束、且具有沿所述照射目标的深度方向的最深部的形状的团块;控制装置,该控制装置进行控制,使得对于从所述多个照射层中选择出的最深的照射层,用所述粒子射线束进行多次照射,并利用该多次的粒子射线束的照射,对所述最深的照射层给予计划照射剂量;检测所述照射目标的移位的移位检测装置;以及调整装置,该调整装置根据利用所述移位检测装置检测出的所述照射目标的移位,调整所述粒子射线束的照射剂量,使得在所述最深的照射层发生移位时,也对所述最深的照射层给予所述计划照射剂量。
地址 日本东京