| 发明名称 | 立体图纹形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种立体图纹形成方法，步骤包含：提供一成型工件，其外表面与内表面分别具有一第一光阻层与一第二光阻层；将成型工件置于在一透光治具上；曝光及显影第一光阻层与第二光阻层，使得第一光阻层形成一图案化光阻层，第二光阻层形成一蚀刻保护层；蚀刻成型工件，以使成型工件的外表面形成一立体图纹；以及移除图案化光阻层与蚀刻保护层。 | ||
| 申请公布号 | CN102141728A | 申请公布日期 | 2011.08.03 |
| 申请号 | CN201010533687.7 | 申请日期 | 2010.10.29 |
| 申请人 | 仁宝电脑工业股份有限公司 | 发明人 | 张建明;吴荣钦;庄万历 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 逯长明 |
| 主权项 | 一种立体图纹形成方法，其特征在于，包括：提供一成型工件，其外表面与内表面分别具有一第一光阻层与一第二光阻层；将该成型工件置于在一透光治具上；曝光及显影该第一光阻层与该第二光阻层，使得该第一光阻层形成一图案化光阻层，该第二光阻层形成一蚀刻保护层；蚀刻该成型工件，以使该成型工件的该外表面形成一立体图纹；以及移除该图案化光阻层与该蚀刻保护层。 | ||
| 地址 | 中国台湾台北市 | ||