| 主权项 |
一种用于液体处理一类碟形物件之装置，其包括有：1.1一个用于握持并转动一类碟形物件的转盘；1.2用于将液体分配至类碟形物件上的分配机构；1.3用于收集当旋转时被抛离类碟形物件之液体的液体收集机构；1.4一与类碟形物件平行配置且当被该转动机构握持时会面向类碟形物件的底板；1.5用于将气体导向平行底板且横越底板的导气机构。如申请专利范围第1项之装置，其中导气机构包括有一个用于收集气体之排气孔和一个提供气体之气体源，其中排气孔和气体源乃彼此配置于一对称平面的两侧，该平面于进行处理时乃垂直于类碟形物件的平面。如申请专利范围第1项之装置，其中导气机构包括有一个具环室第一部分之形状的排气室，以及一个具环室第二部分之形状的气体来源室。如申请专利范围第3项之装置，其中环室的两个部分均透过一个槽形环状开口接至底板和类碟形物件之间的区域。如申请专利范围第4项之装置，其中环室之第一部份与环室之第二部分均属同一环室。如申请专利范围第5项之装置，其中第一部份及第二部分系由一块放射状壁面彼此隔开。如申请专利范围第1项之装置，其中配置了一块挡水板，供将旋转时被抛离类碟形物件之液体导入一个环形管。如申请专利范围第1项之装置，其更包括有用于改变底板和类碟形物件之间距离的距离改变机构。一种用于液体处理一类碟形物件之方法，其包括有：9.1转动一类碟形物件；9.2于旋转时将液体分配在类碟形物件上面；9.3收集旋转时被抛离类碟形物件之液体；9.4配置一块与类碟形物件平行且于旋转时会面向类碟形物件的底板；9.5朝平行底板之方向引导气体使其横越底板。如申请专利范围第9项之方法，其中当气流朝平行于底板之方向横越底板时，类碟形物件乃维持在至少5 mm的一个距离。如申请专利范围第9项之方法，其中当气流横越底板时，类碟形物件以至少10 rpm的一个速度转动至少一段时间。 |
