发明名称 用于基材处理腔室的盖组件
摘要
申请公布号 TWD141830 申请公布日期 2011.08.01
申请号 TW099303810 申请日期 2010.08.03
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 石川哲也;谭亚历山大;考区大卫H
分类号 15-99 主分类号 15-99
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项
地址 美国