Kriechbeständiges Polierkissenfenster

摘要

Das Polierkissen ist zum Polieren von mindestens einem von magnetischen Substraten, optischen Substraten und Halbleitersubstraten geeignet. Das Polierkissen umfasst eine Polierschicht, die ein Polyurethanfenster aufweist. Das Polyurethanfenster weist eine vernetzte Struktur auf, die mit einem aliphatischen oder cycloaliphatischen Isocyanat und einem Polyol in einem Vorpolymergemisch ausgebildet ist. Das Vorpolymergemisch wird mit einem Kettenverlängerungsmittel umgesetzt, das OH- oder NH2-Gruppen aufweist, und weist eine Stöchiometrie von OH oder NH2 zu nicht-umgesetztem NCO von weniger als 95% auf. Das Polyurethanfenster weist eine zeitabhängige Verformung von weniger als oder gleich 0,02%, wenn sie mit einer konstanten axialen Zugbelastung von 1 kPa bei einer konstanten Temperatur von 60°C bei 140 Minuten gemessen wird, eine Shore D-Härte von 45 bis 90 und eine optische Durchlässigkeit bei doppeltem Durchgang von mindestens 15% bei einer Wellenlänge von 400 nm für eine Probendicke von 1,3 mm auf.