| 主权项 |
一种图案形成方法，用以藉由部分去除涂覆层将一基板上的该涂覆层处理成一预定图案，并接着在去除该涂覆层的下方的基础层中形成多个凹槽，该图案形成方法包含下列步骤：将该涂覆层处理成该预定图案；形成一抗蚀薄膜于已处理成该预定图案中之该涂覆层上；基于写入资料而执行写至该抗蚀薄膜上，并显影该抗蚀薄膜，藉以形成一抗蚀图案；以及使用已处理成该预定图案之该涂覆层与该抗蚀图案作为一遮罩而蚀刻该基础层，藉以形成该等凹槽于该基础层中，其中该写入资料包括一部位，在该部位图案资料系结合成一个图案资料，以便透过已处理成该预定图案之该涂覆层之剩余部分而互相邻接之至少二个凹槽所对应的图案得以连续。如申请专利范围第1项所述之图案形成方法，其中该基础层为该基板。一种相位移遮罩制造方法，用以藉由部分去除遮光层将一透明基板上的该遮光层处理成一预定图案，并接着在去除该遮光层区域的至少一部分且在该遮光层的下方的基础层中形成作用成相位移部之多个凹槽，该相位移遮罩制造方法包含下列步骤：将该遮光层处理成一具有该预定图案之遮光图案；形成一抗蚀薄膜于该遮光图案上；依写入资料执行写至该抗蚀薄膜上并显影该抗蚀薄膜，藉以形成一抗蚀图案；以及使用该遮光护图案与该抗蚀图案作为一遮罩以蚀刻该基础层，藉以在该基础层中形成该等凹槽，其中该写入资料包括一部位，在该部位图案资料系结合成一图案资料，以便透过该遮光图案之遮光部而互相邻接之至少二个凹槽所对应的图案得以连续。如申请专利范围第3项之相位移遮罩制造方法，其中该基础层为该透明基板。 |
