发明名称 散热装置之制备方法
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.07.11
申请号 TW094141527 申请日期 2005.11.25
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 发明人 颜士杰
分类号 G06F1/20;H05K7/20 主分类号 G06F1/20
代理机构 代理人
主权项 一种散热装置之制备方法,包括以下步骤:提供一散热装置基体,其具有一表面;对该散热装置基体进行钝化处理,以于该表面上形成一钝化层;于无氧环境中去除该表面上之钝化层;于无氧环境中在表面上形成一催化剂层;采用化学气相沈积法于该催化剂层上生长奈米碳管,进而获取一散热装置。如申请专利范围第1项所述散热装置之制备方法,其中,该散热装置基体之材质选自铜基及铝基材质。如申请专利范围第1项所述散热装置之制备方法,其中,该散热装置基体包括一基座,及复数于该基座之一表面上形成并向外延伸之散热鳍片。如申请专利范围第1项所述散热装置之制备方法,其中,该散热装置基体为一散热块。如申请专利范围第1项所述散热装置之制备方法,其中,所述钝化处理包括步骤:将散热装置基体置于铬酸与磷酸之混合溶液中,于60~90摄氏度温度条件下浸泡10~30秒。如申请专利范围第1项所述散热装置之制备方法,其中,所述钝化层之去除方法选自反应离子蚀刻、电浆蚀刻及湿法蚀刻法。如申请专利范围第1项所述散热装置之制备方法,其中,所述催化剂层之形成方法选自蒸镀法及溅镀法。如申请专利范围第1项所述散热装置之制备方法,其中,所述催化剂层之材质选自铁、钴、镍及其合金。如申请专利范围第1项所述散热装置之制备方法,其中,所述催化剂层之厚度范围为20~50奈米。如申请专利范围第1项所述散热装置之制备方法,其中,进一步包括步骤:于奈米碳管之间填入导热粉体。如申请专利范围第11项所述散热装置之制备方法,其中,所述导热粉体选自银、氧化锌、氮化硼、氧化铝及其混合物。
地址 新北市土城区自由街2号