| 发明名称 | 一种化学机械抛光浆料及其应用 | ||
| 摘要 | 本发明揭示一种化学机械抛光浆料及其应用，其用于铜的化学机械抛光。该抛光浆料含有一种具有星型结构的聚合物表面活性剂，还含有研磨颗粒、络合剂、腐蚀抑制剂、氧化剂。使用本发明的浆料可以降低铜的静态腐蚀速率，改善在抛光后铜线的碟形凹陷。 | ||
| 申请公布号 | CN102093818A | 申请公布日期 | 2011.06.15 |
| 申请号 | CN200910200319.8 | 申请日期 | 2009.12.11 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 荆建芬;蔡鑫元 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C23F3/06(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光浆料，其包含：至少一种具有颜料亲和基团的星型结构的聚合物表面活性剂、研磨颗粒、络合剂、腐蚀抑制剂和氧化剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||