发明名称 等离子显示屏前面板的制作方法
摘要 本发明公开了一种等离子显示屏前面板的制作方法,通过蒸镀完ITO膜层后直接蒸镀Cr/Cu/Cr层;通过一次曝光一次显影一次刻蚀得到具有ITO电极和Cr/Cu/Cr电极的图形;经过一次不同溶液的刻蚀完成电极制作过程,通过控制各个涂层的刻蚀速率达到和现有技术一样的技术效果。本发明的积极效果是:减少了4个工序,可以节约4个工序的设备和所使用的材料;同时实现了ITO电极和Cr/Cu/Cr电极的一次刻蚀,提高了工序良品率;采用一块母版解决了现有技术中使用两块母版引起的BUS电极曝光时和已经制作好的ITO电极进行对位的精度问题,减少了对位偏差引起的不良影响,使显示屏的显示质量得到了提高。
申请公布号 CN102097267A 申请公布日期 2011.06.15
申请号 CN201010597911.9 申请日期 2010.12.21
申请人 四川虹欧显示器件有限公司 发明人 田玉民;罗向辉
分类号 H01J9/20(2006.01)I;H01J9/02(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I 主分类号 H01J9/20(2006.01)I
代理机构 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人 邓世燕
主权项 一种等离子显示屏前面板的制作方法,其特征在于:包括以下步骤:1)蒸镀ITO膜:将前面板玻璃清洗后放入真空镀膜机中,使用靶材蒸镀得到130‑160nm厚度的ITO膜;2)蒸镀Cr、Cu、Cr层:将具有ITO膜层的前面板放入真空镀膜机中,在150~250℃下使用Cr靶材蒸镀底层Cr,得到厚度为0.04‑0.06μm厚度的薄膜层;然后使用Cu靶材蒸镀中间层Cu,得到厚度为2‑4μm厚度的薄膜层;再使用Cr靶材蒸镀上层Cr,得到厚度为0.1μm的薄膜层;3)Pr感光胶涂敷、曝光、显影:将具有ITO膜和Cr/Cu/Cr膜四层涂层的前面板在0.1‑0.2Mpa的压力下涂敷Pr感光胶,在70‑80℃的炉温下进行干燥,得到厚度为5‑20μm的连续的Pr胶层;在曝光机内通过母版对玻璃基板上的Pr胶层进行曝光,曝光量为60‑150mJ/cm2、曝光间隙为250‑400μm;然后在浓度为0.4%、温度为25‑35℃的Na2CO3溶液下、在0.6‑0.8Kg/cm2的压力下进行显影,显影后经过水洗、再经过UV固化,得到具有Pr胶的图形;4)刻蚀:先使用浓度为14wt%、温度为35℃的HCl刻蚀液对上层Cr进行刻蚀,接着使用浓度为3.9wt%、温度为30℃的FeCl3刻蚀液对中间层Cu进行刻蚀,然后使用浓度为4wt%的KMnO4和浓度为6wt%的Na2SiO3、温度为40℃的刻蚀液对下层Cr进行刻蚀,最后使用浓度为18wt%的HCl和浓度为11wt%的FeCl3、温度为45℃的刻蚀液对ITO层进行刻蚀;最后使用浓度为12‑14wt%、温度为40℃的NaOH剥膜液剥掉Pr胶层,同时得到ITO电极和BUS电极;5)涂敷介质层:刻蚀完毕的前面板经过清洗,在上面涂敷50μm厚度的前介质浆料,在150℃的温度下保温20‑30min进行干燥,然后在600‑620℃的烧结温度下进行烧结,烧结后得到第一层介质;再在烧结后的第一层介质上涂敷50μm厚度的前介质浆料,在150℃的温度下保温20‑30min进行干燥,最后在550‑570℃下进行烧结,从而得到满足厚度要求的透明介质层;6)蒸镀MgO层:将经过清洗的前面板玻璃放入MgO镀膜机真空室中,在220‑250℃的温度下蒸镀MgO层,得到满足厚度要求的MgO层;蒸镀完毕后二次喷涂MgO,得到满足覆盖率要求的二次MgO层。
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