发明名称 一种发光二极管芯片及其制造方法
摘要 本发明公开了一种发光二极管芯片及其制造方法,所述发光二极管芯片的特征在于:在衬底背面制备有复合结构的反射镜,所述复合结构的反射镜自衬底向下依次为折射率为1.1-1.6的电介质层、Al膜层及第二金属层,第二金属层优选为Ag膜层,该反射镜可采用涂敷、PECVD、电子束蒸镀或溅射的方法制备。本发明由于采用了SiO2/Al/Ag复合结构的反射镜,解决了在SiO2上直接镀Ag,造成Ag极易脱落的问题,并克服了Ag膜层在后序的打线工艺中由于加热容易产生金属团簇的现象,使芯片的出光效率提升25%以上。
申请公布号 CN102082216A 申请公布日期 2011.06.01
申请号 CN200910199405.1 申请日期 2009.11.26
申请人 上海蓝光科技有限公司;彩虹集团公司;北京大学 发明人 张楠;朱广敏;潘尧波;郝茂盛;齐胜利;陈志忠;张国义
分类号 H01L33/10(2010.01)I 主分类号 H01L33/10(2010.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 31219 代理人 余明伟;尹丽云
主权项 一种发光二极管芯片,依次包括蓝宝石衬底、半导体外延层,所述半导体外延层至少包括n型半导体层、位于n型半导体层上的有源层、以及位于有源层上的p型半导体层,在所述n型半导体层上设有n电极,在p型半导体层上设有透明导电层和p电极,其特征在于:在衬底背面制备有复合结构的反射镜,所述复合结构的反射镜自衬底向下依次为电介质层、Al膜层及第二金属层,所述电介质层的折射率为1.1‑1.6。
地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区芳春路400号
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