一种调节装置

摘要

本实用新型提供一种调节装置，用于调节化学气相沉积反应腔中喷管到电子吸盘的垂直距离，所述调节装置包括底座和斜台，所述底座的高度大于所述喷管最低点到电子吸盘表面的垂直距离，所述斜台的底面紧贴所述底座的顶面，所述斜台的斜面与底面的夹角等于所述喷管与水平面的夹角，所述斜面上设置有刻度值。调节装置能够准确调节化学气相沉积反应腔中喷管到电子吸盘的垂直距离，并且所述调节装置结构简单，便于制作。

主权项

一种调节装置，用于调节化学气相沉积反应腔中喷管到电子吸盘的垂直距离，其特征在于，所述调节装置包括底座和斜台，所述底座的高度大于所述喷管最低点到电子吸盘表面的垂直距离，所述斜台的底面紧贴所述底座的顶面，所述斜台的斜面与底面的夹角等于所述喷管与水平面的夹角，所述斜面上设置有刻度值。