发明名称 具有带粘弹性阻尼层的夹盘的光刻设备
摘要 本发明提供一种具有带粘弹性阻尼层的夹盘的光刻设备,包括构造用于调节辐射束的照射系统、构造成支撑图案形成装置的支撑结构、能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束的图案形成装置、构造成保持衬底的衬底台、构造用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统、构造用于保持和定位物体的夹盘,例如将图案形成装置保持和定位在支撑结构上或将衬底保持和定位在衬底台上,所述夹盘包括基部和限制层。在基部和限制层之间设置包括粘弹性材料的阻尼层。
申请公布号 CN101515117B 申请公布日期 2011.05.18
申请号 CN200910007195.1 申请日期 2009.02.19
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 P·P·赫姆皮内斯;D-J·彼杰沃埃特;Y·K·M·德沃斯;R·I·卡米迪
分类号 G03F7/20(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王新华
主权项 一种光刻设备,其包括:照射系统,所述照射系统构造成调节辐射束;图案形成装置支撑结构,所述图案形成装置支撑结构构造成支撑图案形成装置,所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予到辐射束以形成图案化的辐射束;衬底台,所述衬底台构造成保持衬底;投影系统,所述投影系统构造成将图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上;和夹盘,所述夹盘构造用于保持和定位物体,所述夹盘包括基部和限制层,其中在所述基部和所述限制层之间设置包括粘弹性材料的阻尼层,所述基部由所述阻尼层、或由所述限制层或由所述阻尼层和所述限制层两者覆盖。
地址 荷兰维德霍温
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